（通讯员 刘娟）7月11日，昊华宇航公司接到国家知识产权局发来的授权通知书，该公司研发的“一种沉淀法制备白炭黑的方法”获国家发明专利授权。至此，今年以来，该公司共获得3项专利授权，其中发明专利2项，实用型专利1项。
据了解，多晶硅等硅行业在生产过程中副产大量的四氯化硅，其具有较强的腐蚀性，可用来生产三氯氢硅和气相法白炭黑，但生产工艺复杂，成本较高，若处理不当易造成环境污染和生产浪费。2009年，昊华宇航公司组织研发人员对四氯化硅综合利用技术进行研究，经过多次小试、中试，不断完善工艺参数，生产出了符合行业标准指标要求的沉淀法白炭黑，且副产物氯化钠溶液能够满足烧碱生产要求，具有工艺简单实用，生产成本较低，资源综合利用，产品质量稳定等优点，经济和环保效益较高。